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另一款光刻机技术取得突破,清华大学宣布国产芯片正在赶超 收购搜狗

刻机,清华大学,芯片,国产,突破,正在,技术时间:2021-03-09 22:55:52浏览:184
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芯片——人类智能的皇冠宝石!华为、苹果、高通都是芯片领域的龙头企业,只负责设计。要想把PPT变成成品,需要用到光刻机,这是芯片制造过程中的核心设备,相当于推动科技飞速进步的发动机。然而,在EUV平版印刷领域,世界上只有一家企业,那就是曾经超越日本平版印刷巨头佳能和尼康的荷兰ASML。

“中国核心建筑潮”

然而,由于ASML背后有许多美国财团,美国在芯片制造领域形成了全球垄断。中美之间不断升级的竞争导致华为和SMIC等国内芯片公司在西方受到不公平待遇。在此背景下,中国出台了芯片产业链免税优惠政策,全面推动国产芯片快速发展,计划到2025年将国产芯片自给率提高到70%。所以,中国已经出发了。

为了解决光刻机卡脖子的问题,中科院升级了国产光刻机的研发优先级,旨在加速高端芯片制造产业链的解决;此外,国内部分企业与日本光刻巨头尼康达成合作,希望注资能激活尼康昔日的辉煌,加速中国芯片产业链的快速发展。

清华大学核心技术突破

在中科院和国内企业加快芯片国产化的同时,好消息来自国内芯片领域。清华大学宣布研制出新型粒子加速器光源“稳微聚束”(SSMB),并成功完成第一次原理实验。该报告还发表在世界科学杂志《自然》上。

众所周知,如果光刻机像一个雕刻大师,那么光源就是雕刻大师手中的雕刻刀。ASML极紫外光刻机使用的光源波长为13.5纳米,功能功率为250瓦。然而,随着芯片技术的日益复杂,光刻机对EUV光源的波长和功率要求越来越高。也就是说,只要能找到功率更高、波长更短的光源,就能突破高端芯片的制造难题。

清华大学团队研发4年的加速光源可以获得高功率、高重复频率、窄带宽的相干辐射,波长可以覆盖从太赫兹到EUV。可以说光刻机核心技术取得突破,下一步就是不断攻克关键科技难题,与上下游产业链合作。一旦投入实际应用,这将大大提高国产EUV光刻机的自主研发步伐,不难看出中芯也在赶超!

比尔·盖茨可能真的是对的

事实上,微软创始人比尔·盖茨早就提到,西方对中国芯片的技术封锁不仅会使中国摆脱对西方技术的依赖,实现芯片自给自足,还会给美国的半导体行业带来严重影响,使一些美国人失去高薪工作。但是中国碳基芯片和粒子加速器光源的突破难道不是最好的证明吗?

我相信,经过我们在芯片领域的不断创新和努力,技术封锁只是我们前进道路上的绊脚石,属于中国的星海已经到来!


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